之后的几天，许秋又做了两批器件，一批是重复PEN基片的，另一批是在同样实验条件下玻璃基片的。
    PTB7TH体系中，PEN基片的最高效率提高了一点点，达到了8.20%。
    而玻璃基片下的标准样品，最高效率可达10.26%。
    这个数值，相比于他之前在模拟实验室中得到的10.68%，稍差一些，可能是器件结构不同造成的。
    PEN基片不能高温热退火，所以用的是PEDOT:PSS传输层的正常结构，而之前使用的是氧化锌传输层的倒置结构。
    此外，虽然重点在于PTB7TH体系，但是许秋也做了P3HT体系。
    主要是为了让文章数据更加丰满一些，同时也说明这种柔性衬底的加工方式具有普适性。
    再之后，许秋完成了各种表征测试，包括光吸收光谱、荧光光谱、CELIV测试等，还拍了一张用两只镊子弯曲PEN基片器件的照片。
    在实验进行的间隙，许秋也在同步以论文的形式，写项目的结题报告。
    这个时候，他前期阅读了大量的文献的优势就体现出来了，再加上他还可以随时向学姐请教。
    因此中文论文写起来压力并不大。
    正文部分，许秋先将四组器件编号，PEN基片的PTB7TH、P3HT体系，分别为1#、3#，玻璃基片对应的体系分别为2#、4#。
    然后，主要就是比较玻璃和PEN这两种基片的不同，对器件性能的影响，并分析其可能的原因。
    像是光学性能，光吸收光谱和荧光光谱都是直接测有效层薄膜的，数据对两种基片的器件都是一样的。
    所以不需要比较，直接将得到的图片信息转化为文字就可以了。
    比如：1#、2#有效层共混薄膜的主要光吸收范围在550750纳米，最高吸收峰位置在680纳米处，3#、4#的主要光吸收范围在300600纳米，最高吸收峰位置在530纳米处。
    荧光光谱则相对复杂一些，两种体系都需要分别测试给体、受体单独组分薄膜和共混薄膜的荧光光谱，然后计算荧光淬灭效率。
    不过，同样是看图说话，也没什么难度。
    而像是CELIV，则是对电池器件进行表征，那么不同样品编号的器件测试的结果就会有所不同，就需要进行比较分析。
    许秋的测试结果：
    1#的载流子迁移率是1.2E4厘米平方每伏秒，2#是2.5E4厘米平方每伏秒，显然2#更高一些，但两者在同一数量级。
    因为2#对应的电池器件性能更好，就可以解释为，载流子迁移率的提高导致了器件性能的提高。
    进一步，还可以继续分析下去，比如迁移率的提高会减小电荷复合情况，增大短路电流密度等等。
    但如果反过来，假如他的测试结果为：
    2#是1.2E4厘米平方每伏秒，1#是2.5E4厘米平方每伏秒。
    那么就可以一笔带过，说两者载流子迁移率相差不大，在同一个数量级，或者说载流子迁移率对器件光电性能的影响不大。
    许秋最开始阅读文献的时候，就时常疑惑，对于同样的一个实验现象，为什么有的人说是XX原因，有的人说是YY原因，还有人说是XXYY原因，难道学术界里就没有一种统一的观点吗？
    后来，随着文献阅读量的提升，他逐渐明白了其中的道理。
    材料，或者说所有的实验学科，所有对实验结果的解释其实都是猜想，理论永远是落后于实验的。
    不可能凭空创造一个完美的理论模型，如果那样的话，直接开几台超算，算出最优结果就行了。
    真实情况是，研究者们需要通过不断的实验，得到大量的实验数据，然后通过这些实验数据，来建立起一套理论体系。
    但即使这样建立的体系，可能还是存在很多问题，需要不断的给理论打补丁。
    同时，其中还会有很多现象难以解释，这个时候，行业大佬们就会提出很多种观点。
    而其他研究者们在发表论文时，也会对这些现象进行讨论，提出自己的观点。
    这个过程就类似于辩论。
    最终，学术界可能只剩下一种统一的观点，也可能会有多种观点并存，抑或者在将来又有新理论将之前的理论完全推翻。
    …………
    一周过去，许秋完成了项目结题报告。
    同时，他也收到了系统提示。
    【进阶任务已完成，获得2000积分，权限等级+1。】
    【当前权限等级为3级，模拟实验系统升级。】
    【模拟实验系统LV2：
    可以扫描一定空间内的实验设备、耗材，并在系统空间中将其完全模拟出来，宿主可以在模拟实验室中进行实验，每小时消耗100积分。
    当前可扫描的空间上限1000立方米。
    模拟实验室内开启内置加速功能，当前开放倍率0.52倍，使用该功能时，消耗积分为100*倍率积分每小时。】
    【获得进阶任务：以第一作者身份发表一篇SCI论文。任务奖励：2000积分，权限等级+1。】
    【科研辅助系统】
    权限等级：3
    积分：6978
    进行中的任务：3个
    熟练度：
    【实验操作类】
    制备手段：
    清洗基片（四阶40%/四阶50%）
    溶液配制（四阶40%/四阶50%）
    旋涂（四阶40%/四阶50%）
    蒸镀（四阶35%/四阶50%）
    表征手段：
    光电性能（四阶40%/四阶80%）
    光学性能（四阶5%/四阶80%）
    电荷输运性能（三阶30%/四阶20%）
    【仪器设备工具类】
    ……
    【特殊类】
    文献阅读（二阶62%/四阶50%)
    周常任务I
    周常任务III
    进阶任务
    ##
    最近攒下很多积分，不过许秋暂时不打算使用，先当个仓鼠比较好。
    一方面，现在没有用模拟实验室的必要，虽然开启了加速功能，但2倍速还是不够看。
    另一方面，大多数的操作的熟练度已经达到四阶以上，失误率已降到很低，熟练度慢慢随着时间积累就可以。
    他现在实验方面还没有遇上大的瓶颈，也没有必要使用五阶推演去寻求灵感。
    不知不觉，系统已经陪伴许秋近两个月的时间，系统也确实如同其名字一般，是辅助科研的用途，不能凭空变出远超人类当前文明的黑科技，也不能让他变成超人。
    许秋能有目前的成绩，更多的还是靠他自身的努力。
    现阶段，系统对他的帮助，已经不如他初涉科研圈时候那么多了，他只能期待继续提升权限等级能够带来惊喜了。
    下一个目标，发表SCI论文。